武汉太紫微光电光刻胶产品通过量产验证，我国集成电路领域或迎新突破
10月21日，芯片板块大幅上涨，芯片龙头ETF（）涨超4%，其成分股中芯国际、闻泰科技等涨幅居前。
日前，武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。据介绍，该产品相较于国外同系列产品，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀。业内指出，这是我国首次攻克合成光刻胶所需原料和配方，对我国逐步改变在集成电路领域的受制现状具有重大意义。
