上海微芸半导体申请专利：一种针对刻蚀设备绝缘静电吸盘上自偏压的量测方法
金融界 2024 年 11 月 22 日消息，国家知识产权局信息显示，上海微芸半导体科技有限公司申请一项名为“一种针对刻蚀设备绝缘静电吸盘上自偏压的量测方法”的专利，公开号 CN A，申请日期为 2024 年 8 月。
专利摘要显示，本发明公开了一种针对刻蚀设备绝缘静电吸盘上自偏压的量测方法，本发明涉及半导体制造技术领域，自偏压量测方法如下：通过对刻蚀设备校对以及量测，并建设相应的量测处理平台，将校对和量测的数据传输至量测处理平台，通过在刻蚀设备周围设置摄像头以及传感器，并将摄像头拍摄到的图像以及传感器监测的环境数据传输至量测处理平台，本发明的优点在于：通过 S1、S2 和 S3 对刻蚀设备上静电吸盘的工作条件数据进行存储，在刻蚀设备进行启动时，量测处理平台便于快速调取历史数据，并利用预测分析快速获取当前静电吸盘的自偏压数据，进而量测处理平台根据当前环境数据对静电吸盘的自偏压进行修正，使得静电吸盘具有更加稳定的效果。
