日本的光刻胶能否一招鲜吃遍天？

近期，随着全球半导体市场逐渐回暖，光刻胶作为半导体工艺中不可或缺的重要材料，其生产厂商的订单也开始增多，扩大产能成了新风向。例如，信越化学宣布，为了扩大半导体光刻材料业务，决定在日本群马县伊势崎市新建其第四座生产工厂。东京应化宣布在韩国京畿道平泽市新建工厂，作为其在韩国的光刻胶研发、生产和销售基地。当前，日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额，特别是在高端的ArF和EUV光刻胶领域，市场占有率甚至超过90%，光刻胶也成为了日本在全球半导体制造链中的绝对依仗。

深耕细作造就光刻胶“霸主”

光刻胶被誉为“微纳世界的画家”，在半导体制造中，光刻胶要先被涂覆在硅片或其他衬底上，然后通过光照和后续蚀刻等处理，实现微细图案的制作。这种高精度的制作技术，使得现代电子产品中的集成电路能够实现高复杂度和高集成度。光刻胶的优良特性保证了半导体制造过程的一致性和可靠性，为高效生产提供了坚实的基础。

当下的全球光刻胶市场，几乎被来自日本的JSR、东京应化、信越化学、住友化学等企业所瓜分，也让日本在全球半导体制造链中占据着举足轻重的地位，这都源于日本长久以来的积累。

日本半导体材料的发展可追溯至20世纪50-60年代，随着日本电子产业需求增长而迅速扩张。在20世纪70-80年代，日本通过政府引导的“VLSI项目”集中研发资源，突破晶圆大口径化、高纯度硅材料制备等关键技术，为半导体产业奠定基础。20世纪90年代，半导体产业国际竞争加剧，日本半导体器件市场份额下滑，但材料领域优势继续凸显，企业专注于半导体材料的创新与供应，如信越化学、SUMCO在硅晶圆领域建立领导地位，并实现了在光刻胶、电子气体等关键材料的技术突破等。如今，日本半导体材料产业完成了从依赖外部技术到自主研发的转变，并延续了对光刻胶等材料的纯度与质量的极致追求，以及对新兴市场和技术趋势的快速响应，这些都巩固了日本在全球半导体材料供应链中的核心角色。

芯谋研究总监张彬磊指出，日本企业擅长进行产业垂直整合，芯片公司多采用IDM模式，在材料和零部件领域也习惯于本地配套、本土供应。这种垂直整合产业文化使日本在光刻胶等材料逐渐建立起深厚的底蕴，经过长期积累形成了相对完备的半导体材料体系。

试图左右光刻胶市场

如今，日本在半导体材料领域的地位已经得到了全球的认可，这也让日本获得了主动权。日本政府曾多次限制光刻胶等半导体材料的出口，其中，影响最深远的就是2019年7月，日本政府宣布对出口韩国的半导体工业材料加强审查和管控，并将韩国排除在贸易“白色清单”以外。这些半导体材料包括含光刻胶、氟聚酰亚胺、氟化氢。但为应对这一局势，韩国政府牵头，鼓励韩国半导体材料企业加快研发，全力突破日本企业的垄断，并最终成功突围。2023年3月，日本政府决定解除限制向韩出口上述三种关键半导体材料的措施，将韩日出口贸易恢复至2019年7月之前的状态。至此，长达四年的“日韩半导体贸易战”才正式结束。

而此前，日本政府支持的投资基金“日本投资公司”（Japan Investment Corp，简称JIC）发布声明，收购日本光刻胶制造商JSR，收购总额为9039亿日元（约合人民币419.6亿元），包括净有息负债在内的收购总额将达到1万亿日元（约合人民币464.2亿元）规模。此举也被市场普遍认为，是日本政府要将光刻胶产业“国有化”。对此，赛迪四川平台建设与运营中心总经理池宪念表示：“日本政府支持的日本产业革新投资机构（JIC）对JSR的收购案，不仅仅是为了操控市场。首先，日本政府希望通过‘国有化’JSR，强化国内供应链稳固，减少对外部供应商的依赖，并且加强技术保护，提升其在半导体产业的国际竞争力。”

垄断并非牢不可破

在全球半导体制造链中，各个国家都在根据自身所长，各司其职，但像光刻胶等半导体材料被日本如此垄断的情况非常罕见，以至于日本可以从源头控制全球半导体市场，因此，目睹了日本限制出口、抬高价格等操作后，各国也开始未雨绸缪，加快研发进度，避免陷入无“胶”可用的境地。

事实上，企业不愿花时间和精力深耕光刻胶领域的原因在于，光刻胶的利润并不高，在整个芯片产业的市场规模也很小，世界半导体贸易统计组织(WSTS)的数据显示，2022年全球半导体市场规模为5735亿美元，其中光刻胶的市场规模只有22亿美元左右，不足整体半导体市场规模的1%，因此，日本的价格不高，质量还好，所以各国才会对日本的光刻胶如此依赖。

张彬磊表示，日本虽然在光刻胶领域的技术优势十足，市场份额庞大，但材料领域的优势并非是难以逾越的，只要其他企业长期投入，这种差距是可以快速追赶的。

这点从韩国的突围之路就能看出端倪。2019年，韩国光刻胶对日本的依赖度为80%。但韩国政府在被限制时并没有坐以待毙，立刻牵头一口气投入了6万亿韩元的预算，鼓励韩国的材料企业加快研发进度。三星集团更是投资了数十家韩国本土半导体设备和材料厂商，从化学材料供应商，到陶瓷材料供应商，全力突破日本企业的垄断。2022年12月，这笔投入终于获得了回报，韩国三星电子公司宣布，将东进半导体研发的EUV光刻胶成功应用于其芯片工艺生产线。东进半导体成为韩国第一家将EUV光刻胶本土化至量产水平的公司。

因此，光刻胶等材料的技术突破，其门槛也许并没有想象的那么高。如果其他国家的企业愿意投入，也有望取得突破。

其中，国家的政策和拨款支持显得格外重要，各国政府都在出台一系列政策，扶持本国光刻胶产业的发展。

韩国政府为企业提供了低息贷款、税收优惠等支持，推动企业建设新的生产线，提高产能。部分企业还通过海外并购、合资等方式，获取先进的光刻胶生产技术和设备，进一步提升光刻胶产业的竞争力。美国政府提出，在光刻胶生产、晶圆制造、封装测试等环节加大财政拨款，加强国内外企业合作，鼓励外国制造商和材料供应商在美国和其他盟国地区投资，通过立法改善国内半导体制造生态系统。我国也提出了多条面向光刻胶生产企业的税收优惠等政策。

但日本政府同样也在努力巩固自身的光刻胶供应能力，在价格和产量上占据绝对优势，因此，其他国家还需要给企业更多的支持和时间，厚积才能薄发。

责任编辑：许子皓