台积电高管:N2制程进展顺利按良率计算超过80%

aixo 2024-05-24 12:36:46
芯片 2024-05-24 12:36:46

据台媒《 理财网》报道,台积电高管在 2024 年技术论坛新竹场上称,其采用 纳米片(GAA 晶体管)的 2nm 节点进展顺利。

台积电联席副 COO 张晓强表示,台积电的 2nm 制程进展“非常顺利”:目前纳米片的“转换表现”已达到目标 90%,按良率计算也超过了 80%。

台积电认为其 N2 制程在 2025 年推出时,将继续成为代工业界最领先的技术。

▲ 论坛上的张晓强。图源台积电官方社交媒体动态

另据外媒 整理,台积电将在 2025 下半年实现 N2 制程量产,同期还将带来 3nm 家族中面向 HPC 应用的 N3X 制程。

N3X 制程拥有更高的 1.2V 最大电压,相较 N3P 制程在相同频率下功耗降低 7%,在相同面积下性能提升 5%,在相同频率下密度提升 10%。另据IT之家此前报道,该节点有望从今年开始接获投片。

而在 2026 下半年,台积电将量产两个 2nm 家族变体制程:N2P 和 A16。

N2P 制程将相较 N2 制程在相同频率和密度下功耗降低 5~10%,在相同密度和功耗下性能提升 5~10%。

在 A16 节点,台积电将正式引入背面供电技术。该制程可在相同工作电压下,频率提升 8~10%;在相同频率下功耗降低 15~20%,密度至高提升 10%。