台积电 2nm 工艺最新进展：2025 年量产，性能大幅提升
近日，半导体制造巨头台积电（TSMC）公布了其2nm工艺的最新进展，预计该工艺将在2025年实现量产。台积电表示，其基于GAA（Gate-All-）技术的2nm工艺节点已经成功实现了令人满意的良率，并准备迎接大规模采用。
台积电的2nm工艺被业界视为下一个半导体技术的重要里程碑，预计将带来巨大的性能提升。在最新公布的信息中，台积电透露，他们的N2工艺计划正在稳步推进，紧接着将进行N2P的开发。这表明台积电的2nm技术阵容正在蓬勃发展中。
在良率方面，台积电表示，他们的GAA技术已与2nm工艺成功结合，实现了90%的目标性能。同时，相关的256Mb SRAM器件也达到了80%的良率，这对于新工艺的采用来说是一个巨大的里程碑。台积电一直将平均良率保持在行业设定的阈值之下，体现了其在半导体制造领域的卓越能力。
据悉，苹果被视为台积电2nm工艺的重要客户，台积电的2nm工艺预计将首次亮相在苹果的M5芯片上，该芯片将用于Mac和未来iPad机型。此外，传闻中的A17 Pro芯片也将在未来的 17机型中首次采用这一先进技术。
除了苹果，英特尔也表达了将台积电的2nm工艺集成到其未来Nova Lake CPU产品线中的意图。因此，从整体上看，台积电的2nm工艺有望在未来实现大规模采用。
与此同时，台积电的竞争对手如三星等尚未提供各自2nm产品的最新更新。市场观察家们正密切关注着这场半导体技术的竞赛，期待台积电能够继续保持其技术领先地位。
