ASML 下一代 Hyper-NA EUV 光刻机价格或达 7.24 亿美元，2030 年左右推出

ASML去年末向英特尔交付了业界首台High-NA EUV光刻机，业界准备从EUV迈入High-NA EUV时代。不过ASML已经开始对下一代Hyper-NA EUV技术进行研究，寻找合适的解决方案，计划在2030年左右提供新一代Hyper-NA EUV光刻机。

据报道，Hyper-NA EUV光刻机的价格预计达到惊人的7.24亿美元，甚至可能会更高。目前每台EUV光刻机的价格约为1.81亿美元，High-NA EUV光刻机的价格大概为3.8亿美元，是EUV光刻机的两倍多。如果情况属实，意味着Hyper-NA EUV光刻机的价格也会在High-NA EUV光刻机的基础上翻倍。购买最先进的设备涉及高昂的费用支出，让台积电（TSMC）、三星和英特尔变得犹豫不决。

由于High-NA EUV光刻机较高的定价，已经让台积电变得更加谨慎，计划尽可能地让现有EUV光刻机最大限度地发挥性能，通过适当地升级现有工具、更多地采用多重曝光等技术手段，以减轻采购新设备的投资压力。此前台积电已经公开表达了对High-NA EUV光刻机使用成本的担忧，表示采用新技术的决定取决于最大经济效益和可实现技术之间的平衡，并拒绝透露引入High-NA EUV技术的时间表。今年台积电推出了A16工艺，在外界看来，一定程度上是为了延后启用新设备的时间。

三星也在考虑High-NA EUV光刻机，不过随着Hyper-NA EUV光刻机的时间表变得清晰，可能选择调整其长期路线图。有业内人士透露，对于涉及1nm以下的工艺，现在选择High-NA EUV可能不是最佳选择，其中一种可行性是最大限度地利用手上的EUV设备，跳过High-NA EUV，直接过渡到Hyper-NA EUV。

虽然英特尔是首个购入High-NA EUV光刻机的客户，但是去年其代工业务亏损了70亿美元，今年第一季度甚至亏损还扩大了。如果贸然采购下一代EUV光刻设备，很可能会面临严峻的财务挑战。

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