三星调整平泽园区 P4 产线产能分配,应对市场需求变化
根据韩国媒体ZDNET Korea的报道表示,韩国三星内部已于第三季决定调整平泽园区P4产线第一期 (Phase 1) 的产能分配,就是要从纯NAND Flash闪存的生产,调整为NAND Flash+ DRAM的生产,以应对市场需求变化。
报道表示,这次的产能改变可由该产线的内部代号名称更改中看出来,原本该产线定名为P4F,尾部的F即指Flash闪存。但如今现在的名称是P4H,H是混合的简写,显示产线不只支持一个大项的半导体生产。
事实上,平泽园区P4产线第一期现已部分进驻NAND Flash闪存生产设备,三星目前计划到年底前将该产线NAND Flash闪存的生产能力提升至每月1万片芯片。不过,由于市场的不确定性,到2025年中才有可能为V9 QLC NAND先进产品的进一步投资规划。
而在DRAM生产部分,平泽园区P4产线第一期未来有望具备3-4万片芯片的月产能,制程方面则是导入三星目前最为先进的10纳米级1a、1b制程技术,以应对竞争对手的产能扩张,并在三星内部其他DRAM产线技术升级之际,持续保持对市场的充足供应。
根据规划,三星的平泽园区P4产线总共包含四期构建计划,其中三期DRAM产线即将开建,至于第二期芯片代工产线则是在先前的决定中进一步暂缓投资。